Intel ya piensa en los 10 nanómetros
Estos chips de muy bajo consumo entrarán en producción en el año 2015 y podrían basarse en el proceso de litografía ultravioleta extrema.
Aunque a día de hoy su mayor avance lo representan los chips “Ivy Bridge” y “Haswell” creados sobre la arquitectura Tri-Gate de 22 nm. Y a pesar de que el siguiente paso será trasladar sus esfuerzos a los 14nm, punto de trabajo que está previsto para finales de 2013 o principios de 2014, Intel ya sueña con los procesadores de tan sólo 10 nm.
Es más, la compañía asegura haber resuelto los problemas técnicos de fabricación para dicho proceso, en lo que supone allanar el camino para chips súper avanzados que consuman muy poca energía.
“La tecnología de 14nm está en modo de pleno desarrollo en estos momentos y en vías de preparación para su producción total a finales del próximo año”, ha comentado Mark Bohr, director de arquitectura de procesos e integración de tecnología de fabricación durante su participación en el Intel Developer Forum. “En este momento estoy empleando mi tiempo personal en investigar sobre los 10nm y parece que ya tenemos una solución en esta área”.
Al parecer, los 10nm podrán basarse en una serie de tecnologías experimentales como la fotónica, el grafeno, la síntesis de materiales, las memorias densas, los nanocables, la litografía ultravioleta extrema (EUV) y los recientemente actualizados transistores de tres dimensiones.
“Me gustaría tener EUV funcionado para los 10 nanómetros”, ha apuntado Bohr, tal y como recoge CNET, “pero no puedo garantizar que vaya a estar lista a tiempo”. El hecho de esta técnica sea mucho más costosa que la litografía por inmersión, podría decantar la balanza por esta última.
Pero esto no es todo, los equipos de investigación de Intel también están explorando retos tecnológicos mayores relacionados con los 5 y los 7 nm, pero a mucho más largo plazo. De hecho, los 10 nm no entrarán en producción hasta el año 2015 como muy pronto.
